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  • 海德门电子申请RFID/NFC器件及其制备方法专利,降低制备RFID/NFC器件的工艺复杂度:电子器件

    海德门电子申请RFID/NFC器件及其制备方法专利,降低制备RFID/NFC器件的工艺复杂度:电子器件

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    国家知识产权局信息显示,深圳市海德门电子有限公司申请一项名为“RFID/NFC器件及其制备方法”的专利,公开号CN121034965A,申请日期为2025年10月电子器件。专利摘要显示,本申请公开

    2026-01-11
  • 智芯微电子申请LDMOSFET器件的制造方法及器件专利,简化制造工艺步骤:电子器件

    智芯微电子申请LDMOSFET器件的制造方法及器件专利,简化制造工艺步骤:电子器件

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    国家知识产权局信息显示,北京智芯微电子科技有限公司申请一项名为“LDMOSFET器件的制造方法及LDMOSFET器件”的专利,公开号CN121001370A,申请日期为2025年7月电子器件。

    2026-01-11
  • 华太电子申请SiC横向JFET器件专利,解决传统器件制造困难的技术问题:电子器件

    华太电子申请SiC横向JFET器件专利,解决传统器件制造困难的技术问题:电子器件

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    国家知识产权局信息显示,苏州华太电子技术股份有限公司申请一项名为“一种SiC横向JFET器件”的专利,公开号CN121262865A,申请日期为2025年10月电子器件。专利摘要显示,本申请提供一

    2026-01-11
  • 山东首明科技申请高透光散热型电子封装材料专利,提高电子封装材料的综合性能:电子科技

    山东首明科技申请高透光散热型电子封装材料专利,提高电子封装材料的综合性能:电子科技

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    国家知识产权局信息显示,山东首明科技有限公司申请一项名为“一种高透光散热型电子封装材料及其制备方法”的专利,公开号CN121248930A,申请日期为2025年11月电子科技。专利摘要显示,本发明

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